Kõik avalikud logid
See on Vikipeedia kõigi olemasolevate logide ühendkuva. Valiku kitsendamiseks vali logitüüp, sisesta kasutajanimi (tõstutundlik) või huvipakkuva lehekülje pealkiri (samuti tõstutundlik).
- 28. jaanuar 2015, kell 15:45 Mkristel arutelu kaastöö teisaldas lehekülje Kasutaja:Mkristel/liivakast pealkirja Magnetokristalliline anisotroopia alla (Artikkel liivakastist välja)
- 11. november 2011, kell 22:08 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:Sõltuvus temperatuurist.JPG (Kile kasvukiiruse sõltuvus temperatuurist. Eeskujuks on kasutatud J.S. Becker'i artikklit "Atomic Layer Deposition of Metal Oxide and Nitride Thin Films", lk 22 (http://www.cambridgenanotech.com/theses/jillbeckerthesis.pdf))
- 11. november 2011, kell 22:05 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:Kile paksus.JPG (Kile paksuse sõltuvus gaasivoolust. Joonis tehtud J.S.Becker "Atomic Layer Deposition of Metal Oxide and Nitride Thin Film", lk 20)
- 9. november 2011, kell 20:49 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:ALD aken.JPG (Soodsaimad tingimused kasvatamisek. J.S.Becker "Atomic Layer Deposition of Metal Oxides and Nitride thin films" lk 22)
- 9. november 2011, kell 20:47 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:Gaasivoolureaktor.JPG (Näide võimalikust reaktorist. J.S.Becker "Atomic Layer Deposition of Metal Oxides and Nitride thin films" lk 19)
- 9. november 2011, kell 20:44 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:ALD tsükkel.JPG (AKS üks tsükkel. J.S.Becker "Atomic Layer Deposition of Metal Oxides and Nitride thin films" lk 15)
- 9. november 2011, kell 19:36 Mkristel arutelu kaastöö laadis üles faili Fail:Kasvugraafikud.JPG (Kile paksuse sõltuvus voolukiirusest. J.S.Becker "Atomic Layer Deposition of Metal Oxides and Nitride Thin Films", lk 20.)
- 26. oktoober 2011, kell 08:52 Loodud kasutajakonto Mkristel arutelu kaastöö